适用于大规模生产
随着数据通信、3D 传感、汽车和工业应用领域对 VCSEL 的 AI 驱动需求不断加速，领先制造商正相应地扩大氧化产能。 ALOX GEN2.0 HV Auto 是 ALOXTEC 的解决方案：一款新一代全自动大容量湿法热氧化炉，每月可处理多达 2400 片晶圆，并具备与 ALOXTEC 设备成为全球 VCSEL 湿法热氧化生产标杆相同的工艺性能。
全球 21 个客户现场使用 60 多台设备在欧盟、亚洲和美
国设有支持与销售代表
| 规格 | 数值 |
|---|---|
| 产能 | 1,800 至 2,400 片/月 |
| 晶圆尺寸 | 3 至 8 英寸 |
| 装载 |
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| 处理窗口 |
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| 配备 UniformPerf©（工厂选配或现场升级） |
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| 未配备 UniformPerf© |
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| 4 合 1 功能 | 自动装卸 + 氧化 + 表征 + 退火，一气呵成 |
| 专有视觉系统 |
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| 高均匀性腔室 |
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| 监控与视觉软件 |
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| 供货情况 | 售前咨询开放，请联系ALOXTEC获取配置及交货期信息 |
ALOX GEN2.0 HV Auto 实现了卓越的工艺均匀性，在 6 英寸基板上（未选配 UniformPerf© 选项），孔径偏差可控制在 σ <0.25 µm 以内，且批次间平均氧化孔径偏差低于 0.2 µm。 该设备将经过现场验证的“精确光孔尺寸停止”自动化工艺与在线实时视觉系统相结合，确保氧化结果具有高度可控性和可重复性——该性能已在从 3 层到数百层外延层的各种复杂 EPI 工艺中得到验证。
ALOX GEN2.0 HV Auto 可全面控制热氧化过程中的三个关键参数：压力（范围从几毫巴到大气压）、温度（最高可达600°C）和水蒸气流量（从 5 克/小时到 100 克/小时）。 多区加热架构可有效补偿 EPI 晶圆间的差异，而低压工艺能力与原位退火相结合，可产生高度可靠的氧化层。这种全面的参数控制允许精确调整台面几何形状，以满足最严格的VCSEL 器件要求。
ALOX GEN2.0 HV Auto 与 GEN1.4L自动版采用相同的氧化工艺腔室几何结构、气体输送架构以及专有的原位视觉系统。所有工艺配方均可直接迁移——无需任何工装调整或工艺重新认证成本。
ALOX GEN2.0 HV Auto 适用于大规模生产，支持 3 英寸至 8 英寸的晶圆尺寸，工业级月吞吐量可达 2400 片。通过将氧化、退火和表征功能整合到一台三合一设备中，与多设备方案相比，显著降低了资本支出 (CAPEX) 和运营支出(OPEX)。 该设备配备直观的人机界面（HMI），全面兼容SECS/GEM协议，并支持灵活的装载配置（包括手动和自动模式），同时提供本地技术支持、随时可用的备件以及全面的培训计划。
在湿法热氧化领域，ALOXTEC 首次在氧化阶段引入了晶圆旋转技术。这项创新解决了残余孔径不均匀性的根本原因：炉腔内的局部温度和水蒸气梯度会导致晶圆不同区域的氧化速率略有差异。
通过在氧化过程中旋转晶圆，ALOXTEC 使这些梯度在整个晶圆表面得到平均化。此外，ALOXTEC 专有的原位视觉系统在旋转过程中持续运行并提供实时测量：这一技术成就代表了该领域的全球首创。
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